Pradoto Ambardi (2020) “Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar”, Jurnal Teknik: Media Pengembangan Ilmu dan Aplikasi Teknik, 6(2), pp. 513–518. doi: 10.26874/jt.vol6no2.270.