Penggunaan Natrium Cloride (NaCl) sebagai Alternatif Bahan Pengganti Nikel Cloride (NiCl2) pada Proses Pelapisanan Nikel
DOI:
https://doi.org/10.26874/jt.vol1no1.198Abstract
Pelapisan nikel mengkilap (Bright Nikel Electroplating) merupakan salah satu pelapisan yang banyak dipakai di Industri-industri kecil baik berupa sebagai lapisan dasar maupun untuk lapisan akhir. Kendala utama yang dihadapi adalah bahan-bahan larutan yang relatif mahal dan keberadaannya di pasar yang terbatas. Salah satu bahan yang mahal adalah NiCl2 dengan penggunaanya yang relatif lebih besaar dibanding bahan yang lainnya.
Tujuan penelitian ini adalah untuk mengetahui dapat atau tidaknya digunakan NaCl sebagai bahan pengganti dari NiCI2 dengan menggunakan kondisi pelapsisan yang konstan (temperatur, rapat arus, dan pH semua konstan). Dari hasil penelitian didapatkan bahan NaCI dapat menggantikan NiCI, dengan melihat tampak rupa, ketebalan, kekerasan dan daya lekat dari lapisan. Dari tampak rupa lapisan kedua-duanya menghasilkan lapisan mengkilap dengan ketebalan yang hampir sama (±56,3 : 50,1 µm), kekerasan yang tidak jauh berbeda (534,3 : 518,8 HK) serta daya lekaat lapisan yang masksimal (tidak mengelupas).
References
2. Saleh Ashar, Teknik Pelapisan Nikel MIDC, Bandung,1999.
3. Gabe. G.r., Principles of Metal Surface Treatment and Protection 24 edition, Oxford, 1978.
4. Brenner.A, Electrodeposition of Alloy, Principles and Aplication, Newyork & London, 1963.
5. SAE Handbook part 1, 1980
6. Dibari, George, Nickel Plating, Lea Ronald Product Guide, 1984.
Additional Files
Published
Issue
Section
License
Penulis yang menyerahkan artikel di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik untuk keperluan publikasi telah mengetahui bahwa Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik memberikan akses terbuka terhadap konten untuk mendukung pertukaran informasi mengenai ilmu pengetahuan, sesuai dengan penerbitan daring yang berbasis Open Access Journal dan mengikuti Creative Commons Attribution 4.0 International License. Sehingga penulis setuju dengan ketentuan-ketentuan berikut:
1. Penulis memegang hak cipta dan memberikan hak publikasi pertama kepada pihak jurnal dengan pekerjaan secara bersamaan
di bawah Creative Commons Attribution 4.0 International License yang memungkinkan orang lain untuk berbagi pekerjaan
dengan pengakuan kepengarangan karya dan publikasi pertama artikel tersebut di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan
Aplikasi Teknik.
2. Penulis dapat melakukan perjanjian tambahan untuk hak distribusi non-eksklusif artikel yang telah diterbitkan di jurnal ini
(misalnya, posting ke sebuah repositori institusi atau menerbitkannya dalam sebuah buku), dengan mengakui bahwa
publikasi pertama dilakukan di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik.
3. Penulis diizinkan dan didorong untuk menyebarkan karya mereka secara daring (misalnya, dalam repositori institusi atau
laman web penulis) setelah artikel terbit (proses penerbitan artikel selesai). Hal ini terkait dengan imbas dari pertukaran
informasi yang produktif (Lihat Pengaruh Open Access).