Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar
DOI:
https://doi.org/10.26874/jt.vol6no2.270Kata Kunci:
Pelapisan nikel temperatur kamar, Pelapisan nikel temperatur tinggiAbstrak
Proses pelapisan nikel temperatur kamar dilakukan dengan memvariasikan waktu proses dan rapat arus. Bila dibandingkan dengan pelapisan nikel temperatur tinggi (T - 40 -700C), biaya nikel temperatur kamar jauh lebih rendah 57,496, sehingga diharapkan dapat menurunkan biaya produksi pelapisan.
Data pemeriksaan/pengujian yang dilakukan pada spesimen yang telah dilapis menunjukkan bahwa kualitas lapisan nilikel temperatur kamar memberikan hasil yang mengkilap, memiliki daya lekat yang baik, dan ketahanan korosi yang cukup tinggi.
Referensi
ASM., “Metal Handbook, vol. 5. : Surface, Cleaning, Finishing and Coating â€, ninth edition., 1982.
AESF., “Training Course in Electroplating & Surface Finishing “., Amirican Electroplaters and Surface Finishers Society., 1998.
Di Bari, George A., "Nickel Plating Bathsâ€, International Nickel Co., Inc., Saddle Brook, New Jersey. 1984
Lainer, V.I., “Modern Electroplatingâ€, Israel Program for Scientific Translations, Jerusalem, 1970.
Necky Indrakusumah., B.E., “Proses pelapisan Tembaga, Nikel, dan Kromium“, Lembaga Metalurgi Nasional LIPI., 1984.
File Tambahan
Diterbitkan
Terbitan
Bagian
Lisensi
Artikel ini berlisensiCreative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.
Penulis yang menyerahkan artikel di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik untuk keperluan publikasi telah mengetahui bahwa Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik memberikan akses terbuka terhadap konten untuk mendukung pertukaran informasi mengenai ilmu pengetahuan, sesuai dengan penerbitan daring yang berbasis Open Access Journal dan mengikuti Creative Commons Attribution 4.0 International License. Sehingga penulis setuju dengan ketentuan-ketentuan berikut:
1. Penulis memegang hak cipta dan memberikan hak publikasi pertama kepada pihak jurnal dengan pekerjaan secara bersamaan
di bawah Creative Commons Attribution 4.0 International License yang memungkinkan orang lain untuk berbagi pekerjaan
dengan pengakuan kepengarangan karya dan publikasi pertama artikel tersebut di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan
Aplikasi Teknik.
2. Penulis dapat melakukan perjanjian tambahan untuk hak distribusi non-eksklusif artikel yang telah diterbitkan di jurnal ini
(misalnya, posting ke sebuah repositori institusi atau menerbitkannya dalam sebuah buku), dengan mengakui bahwa
publikasi pertama dilakukan di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik.
3. Penulis diizinkan dan didorong untuk menyebarkan karya mereka secara daring (misalnya, dalam repositori institusi atau
laman web penulis) setelah artikel terbit (proses penerbitan artikel selesai). Hal ini terkait dengan imbas dari pertukaran
informasi yang produktif (Lihat Pengaruh Open Access).
