Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar

Authors

  • Pradoto Ambardi Universitas Jenderal Achmad Yani

DOI:

https://doi.org/10.26874/jt.vol6no2.270

Keywords:

Pelapisan nikel temperatur kamar, Pelapisan nikel temperatur tinggi

Abstract

Proses pelapisan nikel temperatur kamar dilakukan dengan memvariasikan waktu proses dan rapat arus. Bila dibandingkan dengan pelapisan nikel temperatur tinggi (T - 40 -700C), biaya nikel temperatur kamar jauh lebih rendah 57,496, sehingga diharapkan dapat menurunkan biaya produksi pelapisan.

Data pemeriksaan/pengujian yang dilakukan pada spesimen yang telah dilapis menunjukkan bahwa kualitas lapisan nilikel temperatur kamar memberikan hasil yang mengkilap, memiliki daya lekat yang baik, dan ketahanan korosi yang cukup tinggi.

Downloads

Download data is not yet available.

Author Biography

Pradoto Ambardi, Universitas Jenderal Achmad Yani

Teknik Metalurgi

References

ASM., “Metal Handbook, vol. 5. : Surface, Cleaning, Finishing and Coating â€, ninth edition., 1982.

AESF., “Training Course in Electroplating & Surface Finishing “., Amirican Electroplaters and Surface Finishers Society., 1998.

Di Bari, George A., "Nickel Plating Bathsâ€, International Nickel Co., Inc., Saddle Brook, New Jersey. 1984

Lainer, V.I., “Modern Electroplatingâ€, Israel Program for Scientific Translations, Jerusalem, 1970.

Necky Indrakusumah., B.E., “Proses pelapisan Tembaga, Nikel, dan Kromium“, Lembaga Metalurgi Nasional LIPI., 1984.

Additional Files

Published

2020-09-01

How to Cite

Pradoto Ambardi. (2020). Pengaruh Rapat Arus dan Waktu Pelapisan Terhadap Kualitas Lapisan Nikel pada Temperatur Kamar. Jurnal Teknik: Media Pengembangan Ilmu Dan Aplikasi Teknik, 6(2), 513–518. https://doi.org/10.26874/jt.vol6no2.270

Issue

Vol. 6 No. 2 (2007): Jurnal Teknik - Media Pengembangan Ilmu dan Aplikasi Teknik

Section

Hasil Riset

License

Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.

Penulis yang menyerahkan artikel di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik untuk keperluan publikasi telah mengetahui bahwa Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik memberikan akses terbuka terhadap konten untuk mendukung pertukaran informasi mengenai ilmu pengetahuan, sesuai dengan penerbitan daring yang berbasis Open Access Journal dan mengikuti Creative Commons Attribution 4.0 International License. Sehingga penulis setuju dengan ketentuan-ketentuan berikut:
1. Penulis memegang hak cipta dan memberikan hak publikasi pertama kepada pihak jurnal dengan pekerjaan secara bersamaan
    di bawah Creative Commons Attribution 4.0 International License yang memungkinkan orang lain untuk berbagi pekerjaan
    dengan pengakuan kepengarangan karya dan publikasi pertama artikel tersebut di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan
    Aplikasi Teknik.
2. Penulis dapat melakukan perjanjian tambahan untuk hak distribusi non-eksklusif artikel yang telah diterbitkan di jurnal ini
    (misalnya, posting ke sebuah repositori institusi atau menerbitkannya dalam sebuah buku), dengan mengakui bahwa
    publikasi pertama dilakukan di Jurnal Teknik: Media Pengembangan dan Aplikasi Teknik.
3. Penulis diizinkan dan didorong untuk menyebarkan karya mereka secara daring (misalnya, dalam repositori institusi atau
    laman web penulis) setelah artikel terbit (proses penerbitan artikel selesai). Hal ini terkait dengan imbas dari pertukaran
    informasi yang produktif (Lihat Pengaruh Open Access).